| Lulu Li est une praticienne dans les domaines du design, de l’art, du design interactif, de la recherche, de l’organisation d’expositions, et de l’entrepreneuriat. Ses travaux personnels et en atelier ont remporté de nombreux prix : TOCA ME, Gilbert de Botton UAL, Red Dot, IF Award et prix de la meilleure application 2014 et 2015 d’App store. Sa série de travaux personnels "the lightning babe" lui a valu son entrée dans la scène du design chinois, en 2007, tandis que sa dernière création "Où est-tu.." est installée de façon permanente sur la façade du bâtiment K11, à Shanghai. En 2013, elle a créé une plateforme d’innovation sociale, à Beijing - Interactive Beijing - et le programme "Notre A!r" pour lutter contre la pollution de l’air. Le projet pilote "Eco Air Bubble" transformait des appareils publics de gymnastique en un sanctuaire d’air frais à propulsion humaine. Ce projet a gagné le Prix allemand pour l'innovation des produits verts en 2015. En 2016, son projet de réalité virtuelle “La ville en tant que Musée” a été exposé à la Biennale d’architecture de Venise. En 2015, elle a co-organisé le “Baitasi Re-Made” pour la semaine de Design de Beijing. En 2016, elle a participé à l’organisation ainsi qu’au concept de la première “Biennale d’Art médiatique – déontologie de la technologie”. En 2017, elle a conçu l’ensemble des animations et l’un des premiers jeux immersifs dans les media "LOST IN PLAY" à l’Hôtel CHAO à Beijing, pour la marque de make-up Marie Dalgar. | | EDDIE OPARA | | | | Eddie Opara est né à Londres en 1972. Il a étudié les arts graphiques au London College of Printing et à l’Université de Yale. Il a commencé sa carrière chez ATG et travaillé en tant que designer et directeur artistique à 2×4 avant de créer son propre atelier, The Map Office. En 2010, il a rejoint le bureau de New York de Pentagram, en tant qu’associé. Ses projets ont porté sur des concepts d’identité de marques, des publications, d'emballage, des environnements, des expositions, des installations interactives, des sites web, des interfaces d’utilisateur et des logiciels, et de nombreux projets utilisant des multimédia, pour des clients comme Lululemon, Samsung, Cooper Hewitt, le Smithsonian Design Museum, Nike, Grace Farms, la Menil Foundation, le Corcoran Group, Morgan Stanley, la New York University, SHoP Architects, buroOS, Skidmore Owings & Merrill (SOM), David Adjaye Associates et la Princeton Architectural Press. Son travail fait partie de la collection permanente du Museum of Modern Art et a été publié par Wired, Fast Company, Creative Review, Archis, Surface and Graphis. Opara est aussi critique associé à la Yale University School of Art et il a récemment publié un livre, Color Works, publié par Rockport. Il a été nommé parmi les 100 personnes les plus créatives du monde des affaires par Fast Company, en 2012 et 2014, et a été classé dans la "Power List" d'Ebony Magazine. | | ELAINE RAMOS | | | | Elaine Ramos dirige un atelier de design studio consacré au marché culturel. Elle est aussi la fondatrice de la maison d’édition brésilienne Ubu, créée en 2016. Diplômée de l’École d’architecture et d’urbanisme de l’Université de São Paulo (FAU-USP), elle a travaillé en tant que directrice artistique des éditions Cosac Naify pendant 11 ans (de 2004 à 2015), et réalisé des centaines de livres. Certains de ses projets ont été récompensés par de nombreux Prix, comme le Prix Aloisio Magalhães (de la Fundação Biblioteca Nacional), le Prix Jabuti (de la Câmara Brasileira do Livro), le Prix de design Max Feffer (Cia Suzano de Papel e Celulose), le prix de l’Institut Américain des Arts Graphiques (AIGA) et le Prix du Club des Directeurs artistiques (ADC). Outre la conception de livres, depuis 2010, elle est régulièrement invitée par les institutions de graphisme nationales et internationales pour faire de l’enseignement post-diplôme et des conférences sur le graphisme (Sao Paulo, Mexique, Berlin, Paris, Madrid, Lisbonne, Londres, New-York). Membre reconnu de Jury de concours de Design au Brésil et en Angleterre, elle expose son travail depuis 2006, dans les principaux Musées et des Biennales d’Art graphique en Europe et en Amérique. | | PARTICIPEZ AU CONCOURS LOGO *Télécharger la réglementation du concours* |
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